2010年3月25日,由中华文化促进会主办，中华文化促进会艺展工作委员会承办的“中国艺术环球行动”正式启动第二站：美国纽约国际艺术博览会。
此次盛会，120平米的中国展区共展示了来自26位艺术家的58件代表作品。展示内容涉及雕塑，油画，摄影，装置等多种艺术门类，其中雕塑版块更是成为了中国展区的最大亮点。来自中国雕塑院的钱绍武、叶毓山、田世信、陈云岗、景育民、王绍军、吴为山、吕品昌、殷晓峰、王中、程兵、乔迁共12位著名艺术家首次联合在美国纽约国际艺术博览会上展示其16件最新力作。此外，由闫平、冷军、岳敏君、袁德华、张俊明、王开方、李胜民、刘向东、马精虎、余含兮、戴平均等14位当代艺术家也在此次博览会中将最新的艺术作品向公众亮相。多元的艺术形式以及高水准的艺术作品吸引了众多观众的眼球，中国展区也因此成为整个博览会的焦点，受到了业内人士的一致好评。
中午12点，中国驻美国纽约总领事馆的王参赞和钟领事专程赶到展会现场并在中华文化促进会副主席金坚范和中华文化促进会艺展工作委员会副主任兼秘书长姜瀛先生的陪同下饶有兴致的参观了中国展区。王参赞对此次参展作品给予了高度评价，并和艺术家代表就中国艺术的发展进行了亲切交流。
此次中国展区的隆重亮相更是受到了当地媒体的高度关注，FACEBOOK,ART WORLD NEWS以及纽约艺博会的官网均将中国展区作为当天新闻的头条，对此次中国艺术家组团参展进行了大篇幅的报道。美国纽约艺术博览会主席史密斯先生则向中华文化促进会发出邀请，参加2011年的第33届美国纽约艺博会并确定中华文化促进会为其中国地区的唯一合作伙伴。
此次展会将为期四天，相信中国展区在接下来的四天里，继续展示中国艺术的独特魅力，让更多的外国艺术爱好者了解中国文化。
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